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台积进击10纳米、Intel心惊!ASML笑纳EUV设备大单

2020-09-30 20:53

欧洲半导体设备业龙头艾司摩尔(ASMLHoldingNV)22日宣告,美国某大客户早已下单,最少不会采购15台极紫外光(EUV)微影设备,以便提供支援日益激增的研发作业和未来世代制程技术的试产方案。  ASML声称,最初两台NXE:3350BEUV系统预计今(2015)年底前就能交货,这些设备将重新加入客户自身有数的EUV研发系统行列。ASML执行长PeterWennink说道,EUV微影设备已相似大量普及的阶段。  费城半导体指数成分股ASML22日闻讯跳涨10.29%、收107.81美元,涨幅居30支成分股之硕大,创3月24日以来收盘新纪录。  彭博社报导,英特尔(IntelCorp.)是ASML在美国的仅次于客户。INGBankNV分析师RobinvandenBroek在拒绝接受采访时认为,这显著是英特尔想在7纳米制程技术中引入EUV设备,而假如以长时间的报价计算出来,这笔订单的金额将低约15亿欧元;也就是说,英特尔已将一笔为数极大的资金投入了7纳米制程科技。  denBroek还说道,ASML另外两家大客户分别是三星电子(SamsungElectronicsCo.)与台积电,他指出这两家业者也不会第一时间引入EUV。  barron`s.com报导,CowenCo.分析师TimothyArcuri22日旋即公开发表研究报告认为,台积电正在大力前进10纳米制程,且研究表明该公司的工程进度还不俗。互为较之下,英特尔的10纳米工程进度则稍微延后,而该公司为了维持制程上的领先,可能会不得不加快研发7纳米,进而向ASML买入设备。  台积电联合执行长刘德音曾在4月16日回应,旗下的10纳米制程已获得十个客户使用、预计明年第4季就能量产,而10纳米制程生产能力不会在2016年与2017年期间布置完。另外,台积电也已开始研发7纳米制程技术,预计2017年就转入最后试产阶段的风险生产(RiskProduction)。  国际半导体设备材料协会(SEMI)昌于4月21日发布,2015年3月北美半导体设备制造商接单销售比(Book-to-Billratio)初估为1.10,倒数第3个月低于1.0,并且刷新2014年6月以来新纪录。1.10意味著当月每销售100美元的产品就能收到价值110美元的新订单。

台积进击10纳米、Intel心惊!ASML笑纳EUV设备大单

  华尔街日报报导,英特尔4月14日宣告将2015年资本开支支出自100亿美元(以此类推5亿美元)降到87亿美元(以此类推5亿美元)。两天后,台积电也宣告下修今年资本开支、幅度约9%。根据PacificCrest的统计资料,全球三分之二的半导体资本开支集中于在英特尔、三星以及台积电这三家厂商。